第8章(2/2)

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太低了点吧!”
    001:“这个世界要说眼里最容不下沙(傻)子,非朱长顺教授莫属,你可是被他连续拒绝两次的人,要是还有希望的话,那我就——”
    李凡接话:“那你就怎么?”
    001:“那我就再叫你爸爸?”
    “叫我什么?”
    “爸爸!”
    “哎,真是爸爸的好大儿。”李凡笑笑,从双肩包里拿出笔记本,开机之后点开了一个文件递给朱教授。
    朱教授:“这是?”
    “这是我做的国产芯片自主方案,”李凡说:“其中最关键一点是这套方案将完全取代现有光刻机制造芯片这一固定模式。”
    众所周知z国人的之所以难以造出高精尖芯片。
    就是米国人在光刻机上的限制。
    说到这里不得不讲解下光刻机的工作原理。
    光刻机又名掩模对准曝光机,它的技术类似照片冲印。借用稳定性强光源将掩膜版上的电路图经过透光镜面投放至底片也就是涂满光刻胶的硅片,通过精密不差分毫的蚀刻去掉光刻胶,露出硅面,直到芯片制作完成。
    其中光源和中心镜头是光刻机的核心技术,由于技术专业的限制z国人目前还无法接触到高端芯片的数据。
    如果说芯片制造真的能绕开光刻机,那z国的未来将不可想象,朱教授激动架在鼻梁上的老花镜都激动的往下滑了一厘米。
    “教授您是这方面的专家,我相信摩尔定律您一定知道,集成电路芯片上所集成的电路的数目,每隔18个月就会翻一番1。”
    “因此无论哪国,都会尽可能缩短晶体管栅极的宽度,也就是栅长。毕竟栅长越短,那么相同尺寸上的硅片能集成晶体管数量也就越多。加上硅的独特属性,它存在着物理极限,一旦突破它的物理极限,晶体管中的电子就很容易产生隧穿效应,为芯片的制造带来巨大的危险。”
    “虽然目前米国的英尔特,还有bmi等企业和机构一直在试图解决晶体管漏电问题,避免隧穿效应的产生。”

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