第42章 技术阻碍(2/3)
营西北机械厂709厂）、汇盛电子电子机械设备公司、兰州兰新高科技产业股份有限公司、大族激光、深圳市红宝石激光设备有限公司、武汉三工、珠海莱联光电、珠海粤茂科技。
7、晶片减薄机
设备功能：通过抛磨，把晶片厚度减薄。
主要企业（品牌）：
国际：德国gn公司、日本disco公司、日本okamoto公司、以色列camtek公司。
国内：兰州兰新高科技产业股份有限公司、深圳方达研磨设备制造有限公司、深圳市金实力精密研磨机器制造有限公司、炜安达研磨设备有限公司、深圳市华年风科技有限公司。
8、气相外延炉
气相外延炉设备功能：为气相外延生长提供特定的工艺环境，实现在单晶上，生长与单晶晶相具有对应关系的薄层晶体，为单晶沉底实现功能化做基础准备。气相外延即化学气相沉积的一种特殊工艺，其生长薄层的晶体结构是单晶衬底的延续，而且与衬底的晶向保持对应的关系。
主要企业（品牌）：
国际：美国cvd equipment公司、美国gt公司、法国soitec公司、法国as公司、美国proto flex公司、美国科特·莱思科（kurt j.lesker）公司、美国applied materials公司。
国内：中国电子科技集团第四十八所、青岛赛瑞达、合肥科晶材料技术有限公司、北京金盛微纳、济南力冠电子科技有限公司。
9、分子束外延系统
此芯片生产设备功能：分子束外延系统，提供在沉底表面按特定生长薄膜的工艺设备；分子束外延工艺，是一种制备单晶薄膜的技术，它是在适当的衬底与合适的条件下，沿衬底材料晶轴方向逐层生长薄膜。
主要企业（品牌）：
国际：美国veeco公司、美国svtassociates公司、美国nbm公司、法国riber公司、芬兰dca instruments公司、德国omicron公司、德国mbe-komponenten公司、英国oxford applied research（oar）公司。
国内：沈阳中科仪器、北京汇德信科技有限公司、绍兴匡泰仪器设备有限公司、沈阳科友真空技术有限公司。
10、氧化炉（vdf）
设备功能：提供要求的氧化氛围，实现半导体预期设计的氧化处理过程，为半导体材料进行氧化处理，是半导体加工过程的不可缺少的一个环节。
主要企业（品牌）：
国际：英国thermco公司、德国centrotherm thermal solutions gmbh co.kg公司。
国内：青岛福润德、北京七星华创、中国电子科技集团第四十八所、青岛旭光仪表设备有限公司、中国电子科技集团第四十五所。
11、低压化学气相淀积系统
设备功能：把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入lpcvd设备的反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜。
主要企业（品牌）：
国际：日本日立国际电气公司、
国内：中国电子科技集团第四十八所、上海驰舰半导体科技有限公司、中国电子科技集团第四十五所、北京仪器厂、上海机械厂。
12、等离子体增强化学气相淀积系统
设备功能：在沉积室利用辉光放电，使其电离后在衬底上进行化学反应，沉积半导体薄膜材料。
主要企业（品牌）：
国际：日本tokki公司、日本岛津公司、美国proto flex公司、美国泛林半导体（lam research）公司、荷兰asm国际公司。
国内：北京仪器厂、中国电子科技集团第四十五所、上海机械厂。
13、磁控溅射台
芯片生产设备功能：通过二极溅射中一个平行于靶表面的封闭磁场，和靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域，实现高离子密度和高能量的电离，把靶原子或分子高速率溅射沉积在基片上形成薄膜。
主要企业（品牌）：
国际：美国vaportech公司、美国amat公司、美国pvd公司、荷兰hauzer公司、英国teer公司、瑞士platit公司、瑞士balzers公司、德国cemecon公司。
国内：中国电子科技集团第四十八所、北京仪器厂、沈阳中科仪器、成都南光实业股份有限公司、科睿设备有限公司、上海机械厂。
14、化学机械抛光机
设备功能：通过机械研磨和化学液体溶解“腐蚀”的综合作用，对被研磨体（半导体）进行研磨抛光。
主要企业（品牌）：
国际：美国applied materials公司、美国诺发系统公司、美国rtec公司。
国内：兰州兰新高科技产业股份有限公司、爱立特微电子。
7、晶片减薄机
设备功能：通过抛磨，把晶片厚度减薄。
主要企业（品牌）：
国际：德国gn公司、日本disco公司、日本okamoto公司、以色列camtek公司。
国内：兰州兰新高科技产业股份有限公司、深圳方达研磨设备制造有限公司、深圳市金实力精密研磨机器制造有限公司、炜安达研磨设备有限公司、深圳市华年风科技有限公司。
8、气相外延炉
气相外延炉设备功能：为气相外延生长提供特定的工艺环境，实现在单晶上，生长与单晶晶相具有对应关系的薄层晶体，为单晶沉底实现功能化做基础准备。气相外延即化学气相沉积的一种特殊工艺，其生长薄层的晶体结构是单晶衬底的延续，而且与衬底的晶向保持对应的关系。
主要企业（品牌）：
国际：美国cvd equipment公司、美国gt公司、法国soitec公司、法国as公司、美国proto flex公司、美国科特·莱思科（kurt j.lesker）公司、美国applied materials公司。
国内：中国电子科技集团第四十八所、青岛赛瑞达、合肥科晶材料技术有限公司、北京金盛微纳、济南力冠电子科技有限公司。
9、分子束外延系统
此芯片生产设备功能：分子束外延系统，提供在沉底表面按特定生长薄膜的工艺设备；分子束外延工艺，是一种制备单晶薄膜的技术，它是在适当的衬底与合适的条件下，沿衬底材料晶轴方向逐层生长薄膜。
主要企业（品牌）：
国际：美国veeco公司、美国svtassociates公司、美国nbm公司、法国riber公司、芬兰dca instruments公司、德国omicron公司、德国mbe-komponenten公司、英国oxford applied research（oar）公司。
国内：沈阳中科仪器、北京汇德信科技有限公司、绍兴匡泰仪器设备有限公司、沈阳科友真空技术有限公司。
10、氧化炉（vdf）
设备功能：提供要求的氧化氛围，实现半导体预期设计的氧化处理过程，为半导体材料进行氧化处理，是半导体加工过程的不可缺少的一个环节。
主要企业（品牌）：
国际：英国thermco公司、德国centrotherm thermal solutions gmbh co.kg公司。
国内：青岛福润德、北京七星华创、中国电子科技集团第四十八所、青岛旭光仪表设备有限公司、中国电子科技集团第四十五所。
11、低压化学气相淀积系统
设备功能：把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入lpcvd设备的反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜。
主要企业（品牌）：
国际：日本日立国际电气公司、
国内：中国电子科技集团第四十八所、上海驰舰半导体科技有限公司、中国电子科技集团第四十五所、北京仪器厂、上海机械厂。
12、等离子体增强化学气相淀积系统
设备功能：在沉积室利用辉光放电，使其电离后在衬底上进行化学反应，沉积半导体薄膜材料。
主要企业（品牌）：
国际：日本tokki公司、日本岛津公司、美国proto flex公司、美国泛林半导体（lam research）公司、荷兰asm国际公司。
国内：北京仪器厂、中国电子科技集团第四十五所、上海机械厂。
13、磁控溅射台
芯片生产设备功能：通过二极溅射中一个平行于靶表面的封闭磁场，和靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域，实现高离子密度和高能量的电离，把靶原子或分子高速率溅射沉积在基片上形成薄膜。
主要企业（品牌）：
国际：美国vaportech公司、美国amat公司、美国pvd公司、荷兰hauzer公司、英国teer公司、瑞士platit公司、瑞士balzers公司、德国cemecon公司。
国内：中国电子科技集团第四十八所、北京仪器厂、沈阳中科仪器、成都南光实业股份有限公司、科睿设备有限公司、上海机械厂。
14、化学机械抛光机
设备功能：通过机械研磨和化学液体溶解“腐蚀”的综合作用，对被研磨体（半导体）进行研磨抛光。
主要企业（品牌）：
国际：美国applied materials公司、美国诺发系统公司、美国rtec公司。
国内：兰州兰新高科技产业股份有限公司、爱立特微电子。
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